真空鍍膜的作用

2020-11-14 11:37:37

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真空鍍膜的作用（yòng）主要是使鍍膜表麵（miàn）具有高的金屬光澤和鏡麵效果，特別（bié）是汽車燈罩，具有非常重要的聚光效果；其次（cì），使鍍膜表麵具有極好的阻隔（gé）性，提供優（yōu）良的電磁屏蔽和導電效果。根據氣相金屬生成方式和沉（chén）積方式（shì）的不同（tóng），真空鍍膜分為（wéi）兩種（zhǒng）工藝：熱蒸發鍍膜法和磁控（kòng）濺射鍍（dù）膜法。而磁控濺射法由於鍍層與（yǔ）基體結合力強，鍍層致密、均勻，因而更具技術優勢。負壓電鍍技術是指在真空（kōng）環境中，某些金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表麵(通（tōng）常是非金屬)，屬於物理氣相沉積工藝，由於通常是鋁、錫、銦等金屬的鍍層，所以又（yòu）稱負壓金屬化。

本工廠現場1（輪播圖） - 副（fù）本.JPG

磁控濺射（shè）法是一種物理氣相沉積法，用於製備各種材料的薄膜，如金屬，半導體，絕緣體等。鍍膜（mó）過程中，鍍速與濺射功率、濺射時間、靶材到基片的距離、工作氣壓等因素都（dōu）會影響鍍膜質（zhì）量和厚（hòu）度。磁控濺射法鍍膜時，由於耗靶量增大，耗靶（bǎ）量增大（dà），靶基間距增大，當其他參數相（xiàng）同時，鍍（dù）膜性能逐漸下降，不符合要求。在均勻的磁場作用下，薄（báo）膜的均勻性受到磁場的影響，磁場不均勻會引起薄膜位置的偏移。

磁控濺射是70年代在陰（yīn）極濺射基礎上發展起（qǐ）來的一種新的濺射鍍膜方法，因其有效地克服（fú）了陰極濺射速率低、電子使襯底溫度升高（gāo）等缺點（diǎn）而得到了迅速發（fā）展和廣泛應用。