真空磁控濺射鍍膜怎麽樣

LOW-E，也稱（chēng）為鍍膜玻（bō）璃，分為在線（xiàn）鍍膜和離（lí）線鍍膜！性能優勢：導（dǎo）電性，節能，防紫外（wài）線（xiàn）等。LOW-E玻璃，也稱為low-e玻（bō）璃，在玻璃表麵或由薄（báo）膜產品組成的（de）其他化（huà）合物上塗覆了多層金屬。其塗層（céng）具有（yǒu）可（kě）見光透射率高，中，遠紅外反射率高的特點，與普通玻璃（lí）和傳統建築（zhù）塗層玻璃相比，具（jù）有優異的隔熱效果和良（liáng）好的（de）隔熱性。透光率。

真空磁控濺射鍍膜特別適用於反應沉積鍍（dù）膜。實際上，該工藝（yì）可以沉積（jī）氧化物，碳化物和氮化物材料（liào）的任何薄膜。此外，該工藝還特別適（shì）用於多層（céng）膜結構的沉積，包括光學設計，彩色膜，耐磨塗層，納（nà）米層壓板，超晶格塗層，絕緣膜等。早（zǎo）在1970年，就有高質量光學薄膜沉積（jī）箱（xiāng），並開發了（le）各種光學薄膜材料。這些材料（liào）包括透明導電材料，半導（dǎo）體，聚（jù）合物，氧化物，碳（tàn）化物和（hé）氮化物。至於氟化物，它們主要用於蒸發鍍膜等（děng）工藝中。

可以根據（jù）不（bú）同的設備配置不同角度的安裝頭（tóu）；安裝使用（yòng）20個不鏽鋼管（guǎn）和複合法蘭，適用於高真（zhēn）空和高純度塗層。此外，還可以（yǐ）根據客戶需要設計其他特殊功能。圓形（xíng）磁控濺射（shè）靶的應用領域。靶直徑為50150mm，主要用於大學和科研（yán）機構的研究磁控濺射鍍膜設備；直徑為150mm或更大的目標是使用http // magnetic的生產型磁控濺射鍍膜設備。受（shòu）控濺（jiàn）射鍍膜（mó）用動能（néng）為數十電子伏特或更高的帶電粒子（zǐ）轟（hōng）擊材料表麵，從而使原子獲（huò）得足夠的（de）能量以濺入氣（qì）相。這種（zhǒng）濺射的複雜粒子散射（shè）過（guò）程稱為濺射（shè）。濺射塗層位於真空室內（nèi），使用帶電粒子轟擊材料表麵，使原子獲得足夠（gòu）的能量。