磁（cí）控濺射真空鍍膜設備有哪些係統

磁控濺射真空鍍膜設備（bèi）是一種在真空條件下對現有產品進行鍍膜的（de）設備。一台完整的磁控濺射真空鍍膜機（jī）由多個係統（tǒng）組成，每個係統可以完成不同的功（gōng）能，從而實現高質量（liàng）的（de）鍍膜。磁控濺射鍍膜（mó）由真空（kōng）室、機械（xiè）泵、真空（kōng）測試係統、油擴散泵、真空泵係（xì）統、冷（lěng）凝泵和成膜控製係統等組成。

根據產生和沉積蒸汽金（jīn）屬的不同方式，真空鍍膜可分為熱蒸發鍍膜（mó）和磁控濺（jiàn）射鍍膜兩種工藝。其中，磁控濺射法因其塗層與（yǔ）基體的附著力（lì）強、塗層（céng）致密均勻等（děng）優點而（ér）具有更多的技術優（yōu）勢。真空鍍膜材（cái）料主要是金屬和金（jīn）屬氧化物。金屬模具塗（tú）層材料包括鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀（yín）、金、鈦、鉻、鉬、鎢等；合金鍍層材料包（bāo）括鎳鉻、鎳（niè）鐵、鐵鈷、金銀金等。金屬化合物包括二氧化矽、二氧化鈦（tài）、二氧化錫等。其中，鋁（lǚ）的應用最為廣（guǎng）泛。這主要是因（yīn）為鋁的蒸發（fā）溫度低（dī），操作方便，對塑料的附著力好，對（duì）紫外線和氣體的阻隔性強，價格低廉。

磁控濺射（shè）是一種物理氣相沉積，用於製備金屬、半導體（tǐ）、絕緣體等材料的薄膜。在實際鍍膜過程中，沉積速率、濺射功（gōng）率、濺射時間、靶材（cái）與襯（chèn）底的距離、工作壓力等都會影響鍍膜質量和厚度。在磁控濺射鍍膜中，隨著使（shǐ）用次數的增加，靶材被消耗，靶材與襯底之間的（de）距離變大。當其他參數不變時，鍍膜會逐（zhú）漸達（dá）不到要求。磁（cí）場的（de）均勻性（xìng）影響薄膜的均勻性。如果磁場不對（duì）稱（chēng），會造成鍍膜位（wèi）置的偏移。