真空鍍膜機的構成和不良反應該怎麽解決

多功能真空鍍膜機是磁控濺射、多弧離子鍍膜和蒸發鍍（dù）膜的混合設備。在多弧離子鍍膜機的基礎上，配以（yǐ）圓柱形靶材或平麵磁控管靶材。該設（shè）備具有離子（zǐ）鍍的高電離率和高（gāo）堆積速度的特（tè）點。它還具有低溫和（hé）磁控濺射穩定性的優點。適用於各種複合膜的電鍍。

多功能真空鍍膜機：磁控管、中頻、多弧離子鍍膜

① 發（fā）汗磁控（kòng）濺射混合設備：多功能（néng），適合批（pī）量生產（chǎn），適應性（xìng）強（qiáng）。

② 磁控濺（jiàn）射與多弧（hú）離子（zǐ）鍍的混合應用：多弧可提高火炮（pào）清洗質量，增加薄膜與基體的附著力（lì）。與磁控濺射結合，可（kě）以製備複合膜（高能離子源清洗活化，成膜（mó）速（sù）度快）。

③ 多中頻磁控濺射靶與柱（zhù）弧離子鍍的混合應用：中頻靶更穩定（如（rú）鋁），電離率高，堆積速度快，成膜均（jun1）勻。如反應（yīng）濺射，如鍍SiO2、TiO2等，用不同（tóng）的原材料多層鍍膜。

④ 射頻、直流、中（zhōng）頻、柱（zhù）弧混合應用：射（shè）頻可直接塗覆絕緣保護膜SiO2/Ag/SiO2

⑤ 圓柱弧、中頻弧和多弧混（hún）合應用：圓柱弧確保高電離率，減少大顆粒（lì）的積（jī）聚，具有良好的附著力和表麵光潔度（dù）。多功（gōng）能真空鍍膜機適用於表帶、表殼、眼鏡架、手機殼、高（gāo）爾（ěr）夫工具、衛浴、首飾（shì）等中高檔產（chǎn）品（pǐn）。

改進措施：

一是加強脫脂（zhī）去汙處理。如果（guǒ）是超聲波清洗（xǐ），應注重脫脂功能，保（bǎo）證脫脂（zhī）液的有效（xiào）性；如果是手搓，可以考慮用碳酸鈣粉擦拭（shì）後再清洗。

二是（shì）鍍前加強烘（hōng）烤。如果條件允許，基板溫度比較好保持在300以上℃ 保持20分鍾以上，以便盡可能多地揮（huī）發基材表（biǎo）麵的水蒸氣和油蒸氣*注：溫度越（yuè）高，基材（cái）的（de）吸附容量越大，且容易吸附灰塵。因此（cǐ），應提高真空室的清潔度。否則，鍍前會有灰塵附著在基體上（shàng），不僅會造成其它缺陷，還會影響膜層（céng）強度（基體上水汽的（de）化學（xué）脫附溫度在260以上）℃ 在（zài）真空中。但並非所有零件都需要（yào）高溫烘烤。一些硝酸鹽材料在（zài）高溫下膜強度較低，會出（chū）現色斑。它與應力和材料熱匹配有很大關係。

3.在條件（jiàn）允許的情況下，機組配備PolyCold，不（bú）僅可以提高機組抽真（zhēn）空速（sù）度，而且有助於去除基體上的（de）水蒸（zhēng）氣和油（yóu）氣。

四是提高蒸發真空度。對於1米以上的塗布機，蒸發起始（shǐ）真空度應大於3*10-3pa。塗布機越大，開始蒸發的真空度越高（gāo）。

5.在（zài）條件允許的情況下，在機組內安裝離子源，鍍前進行轟（hōng）擊，清洗基體表（biǎo）麵，輔助塗裝工藝，有利於鍍層（céng）的致（zhì）密性和牢固性。

六（liù）膜材料除濕，將培養皿中使用的膜材（cái）料放入真空室中幹燥。

7.保持工作環境（jìng）幹燥（zào）（包括擦拭鏡片（piàn）和雨傘工作區），清潔工作環境時不要帶入過多的水蒸氣。

8.對於多層膜，在設（shè）計膜係時，應考慮第1層膜與襯底的（de）匹配，盡量考慮使用對大多數襯（chèn）底具有良好（hǎo）吸附能力的（de）Al2O3膜材料。對（duì）於金屬膜，也可以考慮第1層Cr或Cr合金。鉻或鉻合金對基體也有良好的吸附能力。

9.用拋光液（拋光液（yè））去除鏡片表麵的腐蝕層（水解層）

同時，降低蒸發速率有利於提高膜的強度和膜的表麵（miàn）光潔度。

② 薄膜應力：

薄膜的成膜過程是物質形態轉變的過程。成膜後，薄膜中不可避免地會產生應力。對於多層膜，膜材料有不同的組合，每個膜所反映的應力不同，有的是拉應力，有的是壓應（yīng）力，還有膜與基體的熱應力。

應力的存在對薄膜的強度是（shì）有（yǒu）害的。輕的是（shì）薄膜不能抵抗摩擦，重的是（shì）薄膜破裂或網狀通道（dào）。

對（duì）於減反射膜，由於層數較少，應力不明顯，高反射膜和多層濾膜的應力是常見的不利因素，應特（tè）別注意（yì）。

改進（jìn）措施：

烘烤後電鍍，烘烤後最後一層薄膜，不要立即停止，繼續10分鍾（zhōng）“回火”。薄膜結構趨於穩定。

二是適當延長冷（lěng）卻時間，進行退火時效。降（jiàng）低真（zhēn）空室內外溫差（chà）大引起的熱應力。

三對高反射膜和濾膜在蒸發過程中基（jī）板溫度不宜過高，溫度過高容易產生熱（rè）應力。對氧化鈦（tài）和氧化鉭薄膜（mó）的光學穩定性也有負麵影響。

3.離子輔助塗（tú）層工藝，降低應力。

第四（sì），選擇合（hé）適的膜係匹配，第1層膜（mó）材與襯底匹配（例如，五層減反射膜為al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2；ZrO2也可以使用sv-5（一種ZrO2-TiO2混合薄膜材料）或其他混合高折射率薄膜材料。。

5.適當降低蒸發速率（al2o3-2.5a/s；ZrO2-3A/S；Mgf2-6a/S（參考速率）

六對氧化膜材料均為充氧反應鍍，並根據不同的膜材料控製氧氣進氣量。