蒸發磁控濺射法和磁控濺射法工藝

采用蒸發磁控濺射法（fǎ）和磁控濺射（shè）法兩（liǎng）種工藝的立式裝飾（shì）性鍍膜機，主要用於塑料、陶瓷、玻璃（lí）等金屬材料的裝飾性金屬膜的表麵鍍製。因為鍍膜室是（shì）立式容器，所以它具備臥式鍍膜機的所有優點，真（zhēn）空磁控濺射鍍膜設備廠家直接銷售，又有利於自重較大且易碎的鍍件裝卡，更便於實（shí）現自動生產線，是新一代較為理想的代替傳統濕法水電鍍的真空鍍膜（mó）設備。該機鍍層的部（bù）分產品可以不做底油。采用改進後的（de）真空排氣係統，抽氣（qì）速度快，效率高，省電，減少噪音，延長泵的使用壽命；實現蒸發、磁控濺射式自動控製（zhì），操作簡便，工作可靠（kào）；

磁控濺射真空鍍膜機的主體為真空腔，真（zhēn）空腔（qiāng）的大小（xiǎo）取決於加工產（chǎn）品（pǐn），磁（cí）控濺射鍍膜可以定製尺寸，真空腔一般采用不鏽鋼材（cái）料，要求（qiú）堅固耐用（yòng），不生鏽等。磁控濺射器真空腔有多種連接閥用於連接各種輔助（zhù）泵。

真空鍍膜機：鍍膜工藝（yì）主要有真空磁控濺射法、真空蒸發法、化學氣相沉積法和溶膠-凝膠法（fǎ）等。利用磁控濺射技術可以設計和製（zhì）作多層複合膜係，可在白色玻璃基底（dǐ）上鍍上多種顏色（sè），IPG型鍾表鍍膜機是一種耐腐蝕、耐磨、耐（nài）腐蝕性能好的鍍膜設備，是目前（qián）生產和使用最廣泛的（de）產品（pǐn）之一。與磁控濺射法相比，真空蒸發鍍膜玻璃的種類和質量都有一定的差距，並逐漸用（yòng）真空濺射法（fǎ）代（dài）替。化學氣相沉積法是指在浮法玻璃生產線上，反應性（xìng）氣體在燒焦的玻璃表麵上分解，均勻（yún）地沉積形成鍍膜玻璃。