薄膜的製造離（lí）不開真空鍍膜設備（bèi）

2020-11-16 00:56:17

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薄膜的製造離不開真空鍍膜設備，真空鍍膜設備包括簡單或複合的薄（báo）膜，例如晶體金屬，半（bàn）導體和絕緣體。盡管化學氣相沉積還使用諸（zhū）如減壓，低壓或等離子的真空方法，但是真（zhēn）空塗覆通常（cháng）是指沉積薄膜的物理方法。真（zhēn）空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜，濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜（mó）的多功能性也決定了其廣泛的應用範（fàn）圍（wéi）。通常，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍部件的表麵高度（dù）的金屬光澤和鏡麵效果（guǒ），使膜在膜材料上具有優異的阻隔性能以及提（tí）供優（yōu）異（yì）的電磁屏蔽和導電（diàn）效果。

真空鍍膜設備

真空鍍膜是真空應（yīng）用領域的重要方麵（miàn）。它基於真空技術（shù），采（cǎi）用物理或化學方（fāng）法，吸收了一係列新技術，例如電子束，分子束，離子（zǐ）束，等離（lí）子束，射頻和磁控管。科學研究和實際（jì）生產為薄膜製備提供了新的過程。簡而言之（zhī），將金屬，合金或化合物在（zài）真空中蒸發或濺射以（yǐ）使其固化在被塗覆的物體（稱為基底，基底）上，沉積方法稱為真空塗覆。

僅從膜厚測試（shì）來看，真空鍍膜和光學鍍（dù）膜之間存在以（yǐ）下差異（yì）：1.真空鍍膜：通常為TiN，CrN，TiC，ZrN，電（diàn）鍍厚度約為3-5微米。通常，真空鍍膜的厚度無法在設備上測試； 2.光學塗層的厚度測試可（kě）以通過在塗層機頂部安裝薄膜厚度（dù）測試（shì）儀來完成。之前是光控製（zhì）測試。現在（zài），通常通過使用晶體振蕩（dàng）器的振動頻率來使用晶體控製（晶體振蕩器）來測試（shì）塗層的厚度。不同的膜層具（jù）有不同的厚度。