真空鍍膜設備主要是指需要在較高真空(kōng)度下進行的鍍膜,包括多種類型,包括多弧(hú)離子真空鍍膜(mó)設(shè)備,真空離子蒸發(fā),光學鍍膜機,磁控濺射,MBE分子束外延, PLD激光濺射有多種噴塗方法。真空鍍(dù)膜的工作原理是(shì)薄膜在高溫下在工(gōng)件表(biǎo)麵(miàn)蒸發並結晶。由於空氣將對蒸發的薄(báo)膜分子產生阻力,並引起碰撞,使晶體粗糙而晦暗,因此必須(xū)在高真空(kōng)下使(shǐ)晶體細膩明亮。如果真空度不高,則晶體將失去光澤(zé),並且(qiě)粘合力也非常差。早期(qī)的真空鍍膜依賴於蒸發器的自然散射,加上工作效率低和光澤差。現在添加(jiā)中頻磁控濺射靶。磁控射擊靶在電場的作用下(xià)加速了膜體蒸發分子(zǐ)對靶材料的轟擊,濺射出大量靶原(yuán)子,中性靶原子(或分子)沉積在(zài)膜(mó)上(shàng)基材(cái)上的薄膜解決(jué)了過去無法通過自然(rán)蒸發處理的薄膜類(lèi)型,例如鍍鈦和鍍鋯。
目前,真空技術越來越廣(guǎng)泛地用於石油,化工,製藥,冶金等行(háng)業的真空蒸發,結(jié)晶,蒸餾,升華(huá),幹燥,負(fù)壓濃(nóng)縮,脫水,化學反應吸收和真空(kōng)輸送(sòng)材料。在加工過程中應用真空技術後,可以節省能源,減少消耗(hào),加快反應速度,提高(gāo)產(chǎn)品質量,增加經濟效益。它已逐漸形成共識。但是,真空(kōng)技術(shù)是一門邊緣科學。解放後,中國的真空工業消化了前蘇聯和(hé)美國。在日本和德國產品的基礎上開發的。蒸汽噴射真(zhēn)空泵具有真空度高,能耗低,運行穩定,無機械摩擦,壽命長,設(shè)備(bèi)安全的優點。在(zài)具有高真空要求的工作係統中,蒸汽噴射真(zhēn)空泵通常是真空設備。
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