真空鍍膜設備在真空條件成（chéng）膜優點

2020-11-16 00:49:46

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真空（kōng）鍍膜是一種需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括（kuò）真空離子蒸發（fā），磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺（jiàn）射沉（chén）積（jī）等（děng）。在真空鍍膜的過程中，磁（cí）控管濺（jiàn）射靶會在發射過程中產生高溫，這會使彈丸變形，因此它有一個水套（tào）來冷卻彈丸。為了確（què）保水（shuǐ）套中的水（shuǐ）溫不受環（huán）境和自（zì）然溫度（dù）的影響，通（tōng）常必須使用冷卻器來冷卻真空鍍膜機。

真空鍍（dù）膜設備

真空鍍膜設備在真空條件下成膜有很（hěn）多優（yōu）點（diǎn）：它可以減少蒸發材料中的（de）原子與分子之間的碰撞（zhuàng）以及在飛向基材過程中的分子，減少活性物質之間的（de）化學反應（例如氧化等）氣體和蒸發源材料中的分子，並減少在成膜過程中作為雜（zá）質進入膜的氣體分（fèn）子的量，並且硬件（jiàn）真空鍍膜可以提供膜的密度，純度（dù），沉積速（sù）率和（hé）對基材的附著力。通常，真空蒸發需（xū）要成膜室中的壓（yā）力等於或低於10-2Pa。對於蒸發（fā）源遠離基材且膜質量非（fēi）常高的場合，要（yào）求壓力較低。

鍍在（zài）濺射（shè）塗層中的激光濺射塗層（céng）易於保持組成的均勻性，但是原子尺度的厚度（dù）均勻性相對較差（因（yīn）為（wéi）是脈衝濺射），並且對晶體取向（外緣）生長的（de）控製比較一（yī）般。有關真（zhēn）空（kōng）鍍膜機操（cāo）作步驟的具體操作，請參閱（yuè）設備手冊和設備儀表板上的指（zhǐ）針顯示以及每個（gè）旋鈕下方的說明。檢查真空鍍膜機的操作控製開關是（shì）否處（chù）於“關（guān）閉”位置（zhì）。從我國現有的塗料（liào）生產線來看，主要問題如下：設計水平不高，我（wǒ）國在塗料設備的開發上投入不多（duō），先進，成熟的塗料設備很（hěn）少占領市（shì）場，即使（shǐ）是在國內自（zì）行建造的。對於塗料生產線，該生產線上的（de）一些關（guān）鍵（jiàn）設備也是進口的。我國一些（xiē）基本部件和控製部件的質量不足以承受長期測試。