磁控濺射是指電子在電場(chǎng)作用下被加速到(dào)基板時,電子與氬原子發生碰撞(zhuàng),使大量的氬離子和電子電離,電子飛向基板。它使用高壓電場激發產生等離子(zǐ)塗層材料,該材料幾乎適用於所有高熔點金屬,因此成(chéng)本高於(yú)真空塗層(céng)方(fāng)法,但磁控濺射(shè)方法與真空塗(tú)層相比具有塗層方法製造工藝具有與基(jī)材層的結(jié)合力強,塗層致密均勻的優點(diǎn)。
磁控濺射真空(kōng)鍍膜設備是(shì)現有產品在真空條件(jiàn)下進(jìn)行鍍膜的最常用設備。完(wán)整的磁控濺射真空鍍膜機由多部分係(xì)統組成,每(měi)個係(xì)統可以完成不同的功能。磁控濺射鍍膜(mó)的功能包括真空室,機械泵,真空測試係統,油擴散泵,真空係統(tǒng),冷凝液泵和薄膜控製。係統等,以實現最終的(de)高質量塗層。
真空鍍膜機:鍍膜(mó)主要包括(kuò)真空磁控濺射法(fǎ),真空蒸發法,化學氣相沉積(jī)法和溶膠-凝膠法。磁控濺射鍍膜玻璃可以利用磁(cí)控濺射技術設計和製造(zào)多層複合膜係統,該係統可以在白色玻璃基板上塗覆多(duō)種顏色(sè)。 IPG手(shǒu)表塗層機,該膜具有更好的耐(nài)腐蝕性和耐磨性。 ,是目前生產和使用最頻繁的產品(pǐn)之(zhī)一。與磁控濺射(shè)鍍膜玻璃相比,真空蒸發鍍膜玻璃的品(pǐn)種和質量有一定差距,已逐漸被真空濺射代替。化學氣相沉積法是將反(fǎn)應氣體引入浮法玻璃生產線以在熱玻璃表麵上分解,並均勻地沉(chén)積在玻璃表麵上以形(xíng)成鍍膜玻璃。
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