真空鍍膜設備是怎麽進行鍍膜的（de）

2021-01-08 16:30:14

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具有不同（tóng）塗層工（gōng）藝的真空塗層機使用不同的自動控製係（xì）統，甚至具有相同塗層工藝的真空塗層機也會由於（yú）控製技術指標的不同而（ér）使用（yòng）不同（tóng）的控製係統。通用鍍（dù）膜（mó）設備（bèi）自動控製係統的基本組成部分是微機，自動控製設備，工業自（zì）動化儀表，壓（yā）力控製器，真（zhēn）空計和一些自動控製組件等，可以實現真（zhēn）空鍍膜設備程（chéng）序的自動控製，切換鍍膜工藝流程，基（jī）本功能，如調整真空工藝參數。

在選擇真空鍍膜機的控製係統時，前提是它能有效滿足真空鍍膜設備及其鍍膜過程的控製要求，注意真空鍍膜設備的各種結構與自動（dòng）控製之間的配合程度。係統（tǒng），並且（qiě）要求自動控製係統具有簡單的結構，經濟（jì）的，不一定是很（hěn）高的自（zì）動化程度，而是要（yào）確保真空鍍膜設備的安全性，可靠性，操作方便和（hé）易於維護。控製係統在選擇自動控（kòng）製設備及（jí）其部件和自動儀表時應合理。

真空鍍膜

真空（kōng）鍍膜是高溫下薄膜主體的蒸發，使其在工件表麵上結晶。由於空氣將對蒸發（fā）的薄膜分子產生阻力，並引起碰撞，使晶體（tǐ）粗糙而（ér）晦暗，因此必須在高真空下使晶（jīng）體細膩明亮。如果真（zhēn）空度不（bú）高，晶體（tǐ）將失去光澤，並且粘（zhān）合力也非常差。中頻磁控濺射靶利用磁控靶，在電場的作用下加速膜體（tǐ）蒸（zhēng）發分子對靶材料的轟擊，濺射大量靶（bǎ）原子和中性靶（bǎ）原子（zǐ）（或分子）。）沉積在基板上。膜解決了過去（qù）自然蒸（zhēng）發無法處理的膜品種問題。中頻設備由於其高頻和大電流而必須添加冷卻水（shuǐ）。當電流在導體中流動時，會產生集膚效應，電（diàn）荷會積聚在導體表麵，從而使導體（tǐ）發熱，因此使用中孔管作為（wéi）導體以添加水進行冷卻。