真空蒸鍍是什麽工（gōng）藝

蒸鍍是物理（lǐ）氣相沉積的一種，與濺射鍍膜和（hé）離（lí）子鍍膜相比有其優缺點：設備（bèi）簡單可靠，工藝易於掌握，可以大批量生產，蒸（zhēng）鍍的機理簡單（dān），大（dà）多數物質都可以采用真空蒸鍍；而鍍層與基材結合力差，高（gāo）熔（róng）點（diǎn）物質和低蒸氣壓物質的鍍膜製作難（nán）度大，對於鉑、鋁等金屬來說，蒸鍍物質所用的坩堝材料也會蒸發，混入蒸鍍物質中成為雜質。

真空蒸鍍：真空蒸鍍是指通過蒸鍍（dù）工藝（yì），將某種物質在真空中加熱蒸發，使其沉積於（yú）基材表麵，從而得到薄膜的一種技術。揮發（fā）後的物質叫做蒸鍍材料。法拉第於1857年首次提出蒸（zhēng）發式鍍膜工藝，經過一百多（duō）年的發展，現在（zài）已經成為鍍膜工藝的主流技術之一。通常，真空蒸鍍係統包括三個（gè）部分：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、基片放置和給基片加熱裝置。為了蒸發真空中的待沉積物質，需要一個容器來支持或（huò）裝入蒸發物，同時還需要提供蒸熱以使蒸發物達（dá）到所需的蒸汽壓。

蒸鍍過程中各組分均勻度不容易保證，天津真空（kōng），具體可調節因素同上，但由（yóu）於原理限製，對於非單一組分蒸鍍而言，各組分均勻度（dù）較差。濺射法鍍膜可簡單理解為利用（yòng）電子激光或（huò）高能激光轟擊靶材，將表麵組（zǔ）分以原（yuán）子團（tuán）或（huò）離子的形式濺出（chū），並最終沉積在基體表麵，經過成膜過程，最後形成薄膜。在真空鍍膜機中，濺射鍍膜又分為多種類（lèi）型（xíng），與蒸發鍍膜不同的是濺（jiàn）射速率是（shì）其主要參數之一。