磁控濺射鍍膜是一(yī)種先進的表麵裝飾鍍膜技(jì)術。將(jiāng)薄膜材料製成陰極圓柱形磁控管旋轉靶,置於鍍膜室中心,在電壓(DC或脈衝)作用下,通(tōng)入工作氣體產生真空輝光放電(diàn),在360℃輻射鍍膜。靶材利用率高,工作溫度低,可用於在(zài)金屬或非金(jīn)屬(塑料、玻璃、陶瓷等)上鍍(dù)鋁、銅、鉻、鎳(niè)、鈦、金、銀和(hé)不鏽鋼薄膜。)工件。通(tōng)過引入反應氣體可以鍍(dù)製各種複合膜(mó)。該塗層具有均(jun1)勻、致密、附著力強、衍射(shè)好的特點,廣泛應用於家(jiā)電、鍾(zhōng)表、工藝品、玩具和車燈
塗覆靶是一種濺射(shè)源,其在適當(dāng)的工藝條件下通過磁控濺(jiàn)射、多弧離子鍍或其他(tā)類型的塗(tú)覆係統在基底上形成各種功能膜。簡單(dān)來說,靶材就是高(gāo)速帶電能量粒子轟擊的靶材,用於(yú)高能激光武器。當不同(tóng)功率密度、不同輸出波形、不同波(bō)長的激光與不同目標相互作用時,會產生不同的殺(shā)傷和破壞效果。比如蒸發磁控濺(jiàn)射(shè)鍍膜就是加熱蒸(zhēng)發鍍膜,鋁膜等。通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不鏽鋼、鈦和鎳(niè)靶材等。),不同的膜係(xì)(如超硬、耐磨、耐腐蝕合金(jīn)膜等。)即可獲得。。目標回(huí)收具有成本低、密度高、防(fáng)潮性強、耐(nài)腐蝕、環保等特(tè)點。
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