磁控（kòng）濺射（shè）是一（yī）種（zhǒng）物（wù）理氣相沉積方法

2020-12-11 14:49:51

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真空鍍膜的作用主要是給鍍（dù）零件的表麵高度的金屬（shǔ）光澤和鏡像效果,尤（yóu）其（qí）是對（duì）汽車燈罩,它有一個非常重要的聚光效果,其次給（gěi）屏障性能優良的塗料層,提供良好的電磁（cí）屏蔽和導（dǎo）電性的影響。根據製備氣相（xiàng）金屬的方法和鍍膜的（de）沉積方法，將真空鍍膜分為（wéi）熱（rè）蒸發鍍膜法（fǎ）和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其（qí）中磁（cí）控濺射法具有（yǒu）塗層層與（yǔ）基（jī）體結合（hé）力強、塗（tú）層致（zhì）密均勻等優（yōu）點，具有較大的技術優勢。真空鍍（dù）膜技術是指在真空環境下，將某種金屬（shǔ）或金屬化合物(通常為非金屬)以蒸汽的形式沉積在材料的表麵。它是一種物理氣相沉積（jī）過程，因為塗（tú）層（céng）往（wǎng）往是鋁、錫、銦等金屬的薄膜，所以也稱為真空（kōng）金屬化。

磁控濺射

磁控（kòng）濺射（shè）是一種物理氣（qì）相沉積方法（fǎ），用於製備各種材料的薄膜，如金屬、半導體和絕緣體。在（zài）實際的鍍（dù）膜（mó）過程（chéng）中，沉積速率、濺射功（gōng）率、濺射時間、靶材與（yǔ）基體之間的距離、工作壓力等（děng）都會影響到鍍膜的質量和厚度。在磁控濺射鍍膜中，隨著使用次數的（de）增加，靶材被消（xiāo）耗，靶基距離增大。

在其他參（cān）數（shù）不變的情況（kuàng）下，被塗（tú）膜逐（zhú）漸不能（néng）滿足要求。磁場的均勻性影響（xiǎng）薄膜的均勻（yún）性。如果磁場不對稱，鍍層的位置就會改（gǎi）變。磁控濺（jiàn）射（shè）是20世紀70年代在陰極濺射的基礎上發展起來的一種新型濺射鍍膜方法。由於它（tā）有效地克服了陰極（jí）濺射率低和基片因電子而溫度升高的缺陷，得到了迅速發（fā）展和廣泛應用。